单晶片湿式蚀刻和清洁解决方案。

创新工艺解决方案

单晶片湿式蚀刻和清洁解决方案。

创新工艺解决方案。

01 关于耐晶科技

耐晶科技为芯片制造商提供表面处理解决方案

我们为半导体制造商提供用于单片晶圆湿法蚀刻和清洗应用的半导体设备

我们专注于单片晶圆湿法蚀刻和清洗设备，为专用湿法应用的集成电路制造提供了赋能技术。

我们为客户提供全自动尖端工艺设备可确保提高生产率，保证质量。

在以客户为中心的强大驱动下，我们提供满足客户特定需求的产品，以确保客户的持续成功。 我们的基本柱之一是于客户在半导体行业快速发展的市场中取得成功。

  • 为低、中、高产能量身定制的 3 个设备平台

  • 在全球7 个地点为客户提供支持

  • 全球安装超过 200 个处理腔体并获得认证

02 我们的解决方案

全方位湿法蚀刻和清洗解决方案

我们的全面解决方案提供最先进的湿法蚀刻和清洗设备，工艺，和技术支持服务

我们为半导体制造商提供生产线前端 (FEOL) 和后端 (BEOL) 的加工解决方案。 与传统的批量加工技术相比，我们的单晶片加工技术具有领先优势，可为加工应用提供无与伦比的加工性能。

  • 表面清洁

  • 薄膜和金属蚀刻

  • 称底蚀刻

湿法蚀刻和清洗设备

用于湿法蚀刻和清洗应用的全自动工艺设备，可满足低，中，高生产需求

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工艺应用服务

湿法蚀刻和清洗工艺应用开发和支持服务 包括研发服务, 试验和小规模晶圆代工服务

综合计量学

完全集成的测量解决方案，用于测量加工过程中的层厚度和表面粗糙度。

湿法蚀刻和清洗设备

用于湿法蚀刻和清洗应用的全自动工艺设备，可满足低，中，高生产需求

量测系统

半自动和全自动基板厚度和表面粗糙度测量系统

流程应用

湿法蚀刻和清洗工艺应用开发和支持服务 包括研发服务, 试验和小规模晶圆代工服务

03 为什么选择耐晶科技

耐晶科技是您的合作伙伴，为您提供…

… 要求苛刻的湿蚀刻和清洁应用

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工艺性能

我们的产品为湿法蚀刻和清洗应用提供业界领先的均匀性。 与传统的批量制程不同，我们确保每个晶片都得到相同的处理，以达到最大制程性能。 Process media的高效使用，是单晶片加工的主要优势之一，并大大降低了设备成本。

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创新工艺解决方案

我们坚信，工艺不一定要像过去那样做。 我们与客户一起努力，通过寻找新的创新解决方案来更有效地解决问题，从而塑造行业形象。

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以客户为中心

以客户为中心对我们来说至关重要。 只有了解客户及其需求，我们才能提供创新。

04 加入我们

加入我们的团队

我们聘用优秀的员工，并对他们进行栽培！

查看耐晶科技的工作机会

我们所从事的行业正在稳步发展，就像我们的团队一样！

在耐晶科技，我们与客户是一个团队， 并且热爱我们的工作！ 我们是一个跨学科，跨文化的团队，共同致力于客户的项目。 我们是一家不断发展壮大的公司，实行扁平化管理，并积极促进员工在工作与生活之间取得健康平衡。

05 联系方式

对我们的解决方案感到好奇？ 联系我们