新闻与公告。

新闻

2024 年 11 月 18 日

感谢您使 2024 年欧洲半导体展取得成功!

11 月 12 日至 15 日,欧洲半导体展(Semicon Europa)再次在慕尼黑举行,NexGen 很荣幸能够参与这一顶级盛会。

2024 年 11 月 6 日

新闻稿

NexGen Wafer Systems 推出 SERENO,这是一种多功能、高通量、集成计量功能的湿式蚀刻和清洁解决方案,适用于 6”、8”和 12” 基板

2024 年 11 月 6 日 /// NexGen Wafer Systems 公司今天宣布推出 SERENO,这是一款多功能、高产能的多室平台,专为湿法蚀刻和清洁工艺而设计。新系统提供集成计量功能,支持 6 英寸、8 英寸和 12 英寸晶圆,满足半导体行业对精度和效率的需求。

2024 年 5 月 1 日

NexGen 共同主办欧洲 CMP 和 WET 用户组会议

此次活动为高层讨论、了解最新发展和深入的专业交流提供了一个平台。来自不同公司和研究机构的代表就化学和机械抛光(CMP)以及半导体晶片湿化学处理(WET)的主题分享了他们的知识和经验。

Christian Kleindienst (NexGen Wafer Systems),
Judith Schön (Gesundheits-und Thermenresort Warmbad-Villach),
Barbara Lagger (Gesundheits-und Thermenresort Warmbad-Villach),
Gerfried Zwicker (Zwickerconsult), Benjamin Steible (Fraunhofer ISIT),
Knut Gottfried (ErzM-Technologies UG & Fraunhofer ENAS), Martin Kulawski (Advaplan Oy)

2024 年 6 月 10 日

在制造背面发光堆叠式 CMOS 图像传感器过程中,对硅进行掺杂选择性蚀刻以减薄晶圆

利用硅掺杂选择性蚀刻技术进行背面减薄,以制备背面发光 (BSI) CMOS 传感器。 定制的 HNA 化学(HF:HNO3:CH3COOH)用于停在具有高 p+/p- 选择性的专用 p+/p- 硅过渡层上,提供亚微米级的总厚度变化。

Backside Thinning

2022 年 10 月 18 日

SECS/GEM 简介

NexGen Wafer Systems 软件主管 Iwin Lee 将与您分享半导体制造领域的黄金标准通信协议 SECS/GEM 和 GEM300。了解这些标准如何简化工厂运营,以及 NexGen 如何确保设备无缝集成和增强自动化解决方案的合规性。

新闻信息

关于 NexGen 晶圆系统公司 /// 公司概况介绍

一般新闻信息 – 供媒体代表使用。